Yogyakarta, 24 Juni 2024 – Direktorat Riset dan Pengabdian kepada Masyarakat Universitas Negeri Yogyakarta (DRPM UNY) menyelenggarakan kegiatan Workshop Drafting Paten bagi Dosen dan Mahasiswa UNY Tahun 2024 bertempat di Hotel UNY, dihadiri 70 peserta dari masing-masing prodi di Universitas Negeri Yogyakarta. Acara ini mengusung tema "Pentingnya Perlindungan Kekayaan Intelektual dalam Bentuk Paten bagi Hasil Karya Intelektual Sivitas Akademika UNY".

Prof. Dr. Eli Rohaeti, M.Si., selaku Ketua Panitia Pelaksana, melaporkan bahwa kegiatan ini diikuti oleh 72 peserta yang merupakan perwakilan dari setiap program studi di UNY, serta 8 orang Wakil Dekan RKSIU. "Alhamdulillah, partisipan meningkat dari tahun-tahun sebelumnya. Semoga jumlah paten juga ikut meningkat untuk tahun selanjutnya. Hingga bulan Juni ini, belum sampai 25 paten yang diajukan. Harapannya, melalui kegiatan ini dapat menghasilkan hingga 30 paten per tahun," ujar Prof. Eli.

Prof. Dr. Yudik Prasetyo, S.Or., M.Kes., selaku Direktur DRPM, dalam sambutannya menyampaikan bahwa selain mendukung kegiatan ini, paten yang granted akan memberikan nilai lebih dalam jabatan fungsional (jabfung). "DRPM siap melayani HKI dan melakukan coaching bagi yang ingin mengajukan paten, sehingga dapat memacu kompetisi antar fakultas dalam hal jumlah paten," jelas Prof. Yudik.

Workshop yang dimoderatori oleh Prof. Dr. Sri Handayani, M.Si., dimulai dengan pemaparan dari narasumber pertama, Ibu Syiwi Anggraeni, S.Kom. Beliau menyampaikan tahapan penyusunan spesifikasi paten serta prinsip-prinsip perlindungan paten seperti first to file, informasi paten, biaya tahunan, dan perlindungan territorial. Ibu Syiwi menjelaskan bahwa terdapat dua jenis paten, yaitu paten biasa yang memiliki perlindungan selama 20 tahun dan paten sederhana yang memiliki perlindungan selama 10 tahun. Bagi sivitas akademika UNY pendaftaran paten dapat dilakukan melalui Pusat Sentra HKI dan SNI, DRPM UNY.

Narasumber kedua, Ibu Sri Wulan Prihatin, S.T., memaparkan materi penulisan deskripsi paten. Beliau menjelaskan bahwa deskripsi paten harus dijelaskan secara lengkap dan jelas. Pemeriksaan paten mencakup tiga aspek utama yaitu kejelasan invensi, patentabilitas, dan satu kesatuan invensi. Ibu Sri juga memberikan tips penulisan spesifikasi deskripsi paten yang meliputi penelusuran, pembuatan gambar, penulisan abstrak, penulisan klaim, dan penulisan deskripsi.

Setelah pemaparan materi, kegiatan dilanjutkan dengan sesi tanya jawab yang interaktif, di mana peserta dapat langsung berdiskusi dengan narasumber. Acara ditutup dengan pemberian cenderamata kepada para narasumber dan sesi foto bersama.

Workshop ini diharapkan dapat meningkatkan pemahaman dan kesadaran peserta mengenai pentingnya melindungi hasil karya intelektual mereka melalui paten, serta mendorong munculnya judul-judul paten baru dari sivitas akademika UNY. (Fajar – Heri DRPM)